a:2:{s:9:"oldRecord";a:3:{s:6:"header";s:9:" (copy 1)";s:8:"bodytext";s:648:"[Translate to English:] <h1>Elektroindustrie</h1>
Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenÃ¼ber Wasser und anderen polaren und rÃ¼ckstandsfrei verdunstenden LÃ¶sungsmitteln auf.
GegenwÃ¤rtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels wÃ¤hrend der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der HalbleiteroberflÃ¤chen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet fÃ¼r DataPhysics-Messtechnik:
<ul><li>Vorbehandlung (Reinigung, Plasmaaktivierung) von Mikrochips zur Optimierung des Klebeprozesses)</li></ul>";s:15:"l18n_diffsource";s:402:"a:21:{s:5:"CType";N;s:6:"colPos";N;s:16:"sys_language_uid";N;s:6:"header";N;s:13:"header_layout";N;s:15:"header_position";N;s:4:"date";N;s:11:"header_link";N;s:8:"bodytext";N;s:11:"rte_enabled";N;s:6:"layout";N;s:11:"spaceBefore";N;s:10:"spaceAfter";N;s:13:"section_frame";N;s:6:"hidden";N;s:12:"sectionIndex";N;s:9:"linkToTop";N;s:9:"starttime";N;s:7:"endtime";N;s:8:"fe_group";N;s:10:"categories";N;}";}s:9:"newRecord";a:3:{s:6:"header";s:40:"Electronics and semiconductor industries";s:8:"bodytext";s:356:"Typical application areas of&nbsp; DataPhysics supported measurement techniques:&nbsp;
<ul><li>Monitoring of silicone wafers for surface contamination.</li><p>&nbsp;</p><li>Pre-treatment of microchips for the optimisation of subsequent bonding.</li><p>&nbsp;</p><li>Optimisation of electronic circuit boards for the subsequent printing / trackin</li></ul>";s:15:"l18n_diffsource";s:1169:"a:22:{s:5:"CType";s:4:"text";s:6:"colPos";s:1:"1";s:16:"sys_language_uid";s:1:"0";s:6:"header";s:0:"";s:13:"header_layout";s:1:"0";s:15:"header_position";s:0:"";s:4:"date";s:1:"0";s:11:"header_link";s:0:"";s:8:"bodytext";s:624:"<h1>Elektroindustrie</h1>
Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenÃ¼ber Wasser und anderen polaren und rÃ¼ckstandsfrei verdunstenden LÃ¶sungsmitteln auf.
GegenwÃ¤rtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels wÃ¤hrend der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der HalbleiteroberflÃ¤chen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
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