a:2:{s:9:"oldRecord";a:2:{s:6:"header";s:0:"";s:8:"bodytext";s:624:"<h1>Elektroindustrie</h1>
Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenÃ¼ber Wasser und anderen polaren und rÃ¼ckstandsfrei verdunstenden LÃ¶sungsmitteln auf.
GegenwÃ¤rtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels wÃ¤hrend der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der HalbleiteroberflÃ¤chen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet fÃ¼r DataPhysics-Messtechnik:
<ul><li>Vorbehandlung (Reinigung, Plasmaaktivierung) von Mikrochips zur Optimierung des Klebeprozesses)</li></ul>";}s:9:"newRecord";a:2:{s:6:"header";s:16:"Elektroindustrie";s:8:"bodytext";s:597:"Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenÃ¼ber Wasser und anderen polaren und rÃ¼ckstandsfrei verdunstenden LÃ¶sungsmitteln auf.
GegenwÃ¤rtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels wÃ¤hrend der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der HalbleiteroberflÃ¤chen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet fÃ¼r DataPhysics-Messtechnik:
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