Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenÃ¼ber Wasser und anderen polaren und rÃ¼ckstandsfrei verdunstenden LÃ¶sungsmitteln auf.
GegenwÃ¤rtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels wÃ¤hrend der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der HalbleiteroberflÃ¤chen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet fÃ¼r DataPhysics-Messtechnik:
<ul><li>Vorbehandlung (Reinigung, Plasmaaktivierung) von Mikrochips zur Optimierung des Klebeprozesses)</li></ul>