a:2:{s:9:"oldRecord";a:3:{s:6:"header";s:42:"[Translate to Français:] Elektroindustrie";s:8:"bodytext";s:600:"[] Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenüber Wasser und anderen polaren und rückstandsfrei verdunstenden Lösungsmitteln auf.
Gegenwärtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels während der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der Halbleiteroberflächen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet für DataPhysics-Messtechnik:
<ul><li>Vorbehandlung (Reinigung, Plasmaaktivierung) von Mikrochips zur Optimierung des Klebeprozesses)</li></ul>";s:15:"l18n_diffsource";s:408:"a:21:{s:5:"CType";N;s:6:"colPos";N;s:16:"sys_language_uid";N;s:6:"header";N;s:13:"header_layout";N;s:15:"header_position";N;s:4:"date";N;s:11:"header_link";N;s:8:"bodytext";N;s:11:"rte_enabled";N;s:6:"layout";N;s:11:"spaceBefore";N;s:10:"spaceAfter";N;s:13:"section_frame";N;s:6:"hidden";s:1:"0";s:12:"sectionIndex";N;s:9:"linkToTop";N;s:9:"starttime";N;s:7:"endtime";N;s:8:"fe_group";N;s:10:"categories";N;}";}s:9:"newRecord";a:3:{s:6:"header";s:21:"Industries eleqtrique";s:8:"bodytext";s:309:"<strong>Exemples d'application:</strong><br />
<ul><li>Surveillance de gaufrettes de silicone&nbsp;</li><li>Pré-traitement de puces électroniques&nbsp;pour l'optimisation&nbsp;de liaison</li><li>Optimisation de cartes de circuit électroniques pour la pression de couleur&nbsp;ou le semblable</li></ul>

";s:15:"l18n_diffsource";s:1159:"a:22:{s:5:"CType";s:4:"text";s:6:"colPos";s:1:"1";s:16:"sys_language_uid";s:1:"0";s:6:"header";s:16:"Elektroindustrie";s:13:"header_layout";s:1:"0";s:15:"header_position";s:0:"";s:4:"date";s:1:"0";s:11:"header_link";s:0:"";s:8:"bodytext";s:597:"Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenüber Wasser und anderen polaren und rückstandsfrei verdunstenden Lösungsmitteln auf.
Gegenwärtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels während der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der Halbleiteroberflächen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
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