a:2:{s:9:"oldRecord";a:2:{s:6:"header";s:0:"";s:8:"bodytext";s:624:"<h1>Elektroindustrie</h1>
Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenüber Wasser und anderen polaren und rückstandsfrei verdunstenden Lösungsmitteln auf.
Gegenwärtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels während der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der Halbleiteroberflächen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet für DataPhysics-Messtechnik:
<ul><li>Vorbehandlung (Reinigung, Plasmaaktivierung) von Mikrochips zur Optimierung des Klebeprozesses)</li></ul>";}s:9:"newRecord";a:2:{s:6:"header";s:16:"Elektroindustrie";s:8:"bodytext";s:597:"Frisch gereinigte und entoxidierte Siliziumwafer weisen einen hohen Kontaktwinkel gegenüber Wasser und anderen polaren und rückstandsfrei verdunstenden Lösungsmitteln auf.
Gegenwärtig versucht die Halbleiterindustrie, die Messung des Kontaktwinkels während der verschiedenen Prozessschritte des Reinigens und Dotierens der Halbleiteroberflächen, in den vollautomatisierten Fertigungsablauf zu integrieren
Ein weiteres typisches Anwendungsgebiet für DataPhysics-Messtechnik:
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